塑料成型工藝中描述的拋光與其他行業所需的表麵拋光有很大不同，嚴格（gé）來說，模具的拋光應稱（chēng）為鏡麵（miàn）拋光。它不僅對拋光

本身有很高（gāo）的要求，而且對表麵平整度、的平滑度和幾何精度也有很高的（de）標準。表麵拋光通常（cháng）僅（jǐn）需要光澤表麵。鏡像處理標準

分為四（sì）個級別（bié）。

　　對於電解拋（pāo）光、流體（tǐ）拋光的（de）過程（chéng）中，它是難以準確地控製各部分的（de）幾（jǐ）何精度（dù），由於化學拋光所述超聲波拋光、磁性拋光的、表麵質量不是（shì）必需的（de），精密（mì）模（mó）具主要是基於機械拋光。 。

　　1、半精細拋光主要使用砂紙實（shí）驗室和煤油協（xié）會。

　　2、精密拋光主（zhǔ）要製作金剛石膏。通常的磨削，以除去（qù）為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（zhǐ）（8000）的＃1500離開頭發（fā）的痕跡，拋（pāo）光布為（wéi）9um的金剛石研磨膏你可以使用（yòng）方向盤。然後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級的氈和金剛石漿料進行拋（pāo）光。要（yào）求精度為1微米或更大（包括1微米）的拋光工藝

必須是（shì）絕對清潔的（de）空間，用於拋光模具。灰塵、煙霧，頭皮（pí）屑和唾液可能具有（yǒu）高精（jīng）度拋光表麵，可在工作（zuò）數小時後獲得。

　　3、為了獲得機械拋光的基本程序，高質（zhì）量的拋光效果，最（zuì）重要的是要有高質量的拋光工具和砂紙和研磨膏（gāo）等（děng）配件。最重要的是一個複雜的工作環境，需要一個潔淨室。拋光程序的選擇取決於先前加工的表麵狀況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機械拋光的一般過程如下。粗拋、銑削、電火花、的處理之後磨削表麵可以被（bèi）選擇在35000-40000rpm的（de）旋轉表麵研磨機或超聲波粉碎（suì）機旋轉。常見的方法是使（shǐ）用直徑為3 mm、 WA＃400的輪子去除白色火花（huā）層。然後手動油石磨，金剛石

砂岩和煤油條作（zuò）為潤滑劑或冷卻劑。一般使用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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